真空鍍膜機主要指一類(lèi)需要專(zhuān)門(mén)在較高真空度下進(jìn)行鍍膜的高精密設備，其中鍍膜工藝具體包括真空電阻加熱蒸發(fā)、電子槍加熱蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積、離子束濺射等多種，但主要還是分為 蒸發(fā)沉積鍍膜 和 濺射沉積鍍膜 兩種。
需要鍍膜的被稱(chēng)為基片，鍍的材料被稱(chēng)為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)-島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng)）形成薄膜。
對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。
我司自主研發(fā)的系列鍍膜機適用于在玻璃、樹(shù)脂、陶瓷、金屬等各類(lèi)材質(zhì)表面鍍制AR膜、硬質(zhì)膜、濾光膜、高反膜等各類(lèi)薄膜，具有高生產(chǎn)效率、高穩定性、高重復性的特點(diǎn)，適合大批量連續作業(yè)的需求。
負責產(chǎn)品研發(fā)及生產(chǎn)的總工程師，來(lái)自日本頂級鍍膜設備制造企業(yè)，擁有多年各類(lèi)全自動(dòng)光學(xué)真空鍍膜設備的開(kāi)發(fā)及制造經(jīng)驗。全系列產(chǎn)品在南陽(yáng)工廠(chǎng)完成整體生產(chǎn)及出廠(chǎng)調試，與國外同類(lèi)產(chǎn)品相比，具有貼近用戶(hù)需求、性?xún)r(jià)比高、售后服務(wù)及時(shí)等明顯優(yōu)勢。
